Новости
| Новости | Почта | Работа | Бизнес-сеть | IT-календарь | Выставки | Wi-Fi в Украине |


Бизнес
Аналитика
Hardware
Программы
Коммуникации
Интернет
Googlopedia
Технологии
Безопасность
Развлечения
События
Социальные сети
Лаборатория
Интервью
Прочее
Пресс-релизы
Apple
Реклама
IT образование



Архив новостей
Экспорт новостей
Реклама на сайте
Редакция
Обратная связь

 Подписка на RSS

microsoft Интернет Google Apple телефон реклама samsung Intel Китай США сервис память iPhone IBM сеть процессор AMD Игра nokia Видеокарта программа домен социальная сеть Хакер Yahoo Sony Beeline мобильный телефон Ноутбук Яндекс ноутбук оператор браузер блог отчет видео Киевстар ОС Украина Youtube МТС суд компания уанет рынок Cisco Linux статистика LG поиск

Голосование

Как часто вы меняете мобильный телефон?
Раз в квартал
Раз в пол года
Раз в год
Раз в два года
Еще реже



16-07-2008 12:13 Новости - Hardware

Иммерсия станет будущим DRAM-рынка


В индустрии DRAM (динамической оперативной памяти) традиционная технология сухой литографии с применением фторида аргона (ArF) все еще остается основным инструментом их производства с пределом в 65 нм. Это подразумевает, что для использования элементов меньших размеров требуется другая технология.

Иммерсионный метод использует воду для замены воздуха в качестве среды между литографическими линзами и поверхностью подложки для нанесения рисунка микросхемы. Вода обеспечивает больший коэффициент преломления, меньшее значение ширины линии, снижая физические ограничения. Эта технология, по данным DRAMeXchange, потребует больших капиталовложений, особенно для покупки дорогого иммерсионного оборудования.

Сокращение технологического процесса изготовления узла — наиболее эффективный путь снижения производственных затрат. Технологические лидеры рынка DRAM перешли на 70 нм. Однако традиционная сухая литография имеет физические ограничения на уровне 65 нм, поэтому у них нет других альтернатив кроме иммерсионных инструментов для сохранения господствующего положения на рынке. При этом кто раньше совершит переход на новую технологию, тот и выиграет больше в дальнейшем, считают аналитики.

ASML, Canon и Nikon являются главными поставщиками иммерсионного оборудования. ASML, на данный момент, отправила более 70 наборов, большая часть которых предназначена для производителей системной логики. Ключевыми являются модели ASML Twinscan XT1700i и XT1900Gi. Модель XT1900Gi способна обеспечить техпроцесс менее 40 нм и была отправлена более 10 покупателям с третьего квартала 2008. Nikon начал поставки NSR-S609B для 55-нм и 45-нм техпроцесса с 2006 года. Отгрузки NSR-S610C для 45 нм совершаются с 2007 года.

Кроме сокращения технологического процесса, прорыв в DRAM-технологии может быть совершен путем применения меди. На данный момент, вместо меди используют алюминий, использование меди ускорит производство на 40%, снизит затраты на 30% и сделает на 30% более тонкой ширину линии. Micron уже работает над внедрением меди в производство DRAM и вместе с другими производителями стремится продвинуть эту технологию.

3dnews.ru

Также по теме:
  • Elpida запускает в продажу 50-нанометровую память DDR3 SDRAM
  • Цены на NAND и DRAM вновь упали
  • Компания Hynix Semiconductor разработала самую скоростную оперативную память
  • Hynix анонсировала новую память GDDR5


  • Ваш комментарий
    Ваше имя
    Ваш комментарий
    Подписка на новости ITUA. Введите ваш e-mail:

    13:00 30-11-2008
    Разговоры по мобильным могут подорожать из-за «Укртелекома»








    Фото дня



    Работа и карьера

    Загрузка...
    Загрузка...




    2004 © ITUA.info. Реклама на сайте
    Реклама в интернете: Баннерная реклама, Контекстная реклама, Поисковая оптимизация.